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光固化粘合(he)劑的機遇與挑戰(zhàn)
簡要總結了光固(gù)化粘合劑及其應(ying)用的特點、配方設(she)計要點、難👨❤️👨點和核(he)心性能指标;從技(ji)術特色和技術先(xian)進性角度提出了(le)一些值得關注、并(bìng)有較大市場空間(jiān)的光固化粘合劑(jì),包括UV壓敏膠、複合(hé)膠、建築膠、電子膠(jiao)和光學膠;分析了(le)提高光固化的官(guān)能團轉化率的重(zhòng)要性以及新🐆原料(liao)、新産品開發方面(mian)的🈲一些難題。
發布(bù)時間:
2025-12-13
光刻膠 | 半(bàn)導體高壁壘核心(xin)材料
導言:光刻膠(jiāo)目前廣泛用于光(guāng)電信息産業的微(wei)細🔴圖形線⚽路加工(gong)制作,光刻工藝的(de)成本約占整個芯(xin)片制造工⭐藝的35%,耗(hao)時占整個芯片工(gōng)藝的40%到60%,是半導🌐體(tǐ)制造中的核心工(gōng)藝⭐。光刻膠材料約(yuē)占芯片制造材料(liào)總成本的4%,是半導(dao)體集成🤞電路制造(zao)的核心材料。 中國(guó)光刻膠市場增速(su)高于國際水平,據(jù)前瞻産👅業研究院(yuàn)數據,2019年我國光刻(kè)膠本土供應量約(yuē)70億元,自2010年起複合(hé)增速✍️達11%,遠高于全(quán)球增速,但本土供(gòng)應量在全球占比(bǐ)僅10%左右,且以已經(jīng)實現國産替代的(de)主要是中低端PCB光(guang)刻膠,LCD和半導體領(ling)域的光刻膠自給(gěi)率極低。 光刻膠是(shi)圖形🙇♀️轉移介質,其(qi)利用光照反應後(hòu)溶解度不同将掩(yǎn)膜版圖形轉移至(zhi)襯底上,主要由感(gǎn)光劑(光引發劑)、聚(ju)合劑(感光樹脂)、溶(róng)劑與助劑構成。 光(guāng)🈚刻膠原材料主要(yao)爲樹脂、溶劑和其(qí)他添加劑。其中溶(róng)劑質量占比最大(dà),一般在80%以上。其他(ta)添加劑質量占比(bǐ)雖不❌足5%,卻是決定(dìng)光刻✉️膠特有性質(zhi)的關鍵材料,包括(kuo)光敏劑、表面活性(xìng)劑等材料。 在光刻(kè)工藝中,光刻膠被(bei)均勻塗布在矽片(pian)、玻璃和金屬🌈等不(bu)同的襯底上,經✉️曝(pu)光、顯影和蝕刻等(deng)工序将掩👌膜版上(shàng)的圖形轉移到薄(bao)膜🈚上,形成與掩膜(mó)版完🌏全💋對應的幾(jǐ)何圖形。 光🐇刻膠可(kě)根據其下遊應用(yòng)領域🔅分爲半導體(ti)💋光刻膠、面闆光刻(ke)膠和PCB光刻膠三類(lei)。 半導📐體光刻膠 目(mù)前,KrF/ArF仍是主✌️流的加(jia)工材料💋。光刻技術(shu)随着🐅集成電路的(de)發展經曆了從G線(xiàn)(436nm)光刻,H線(405nm)光刻,I線(365nm)光(guāng)刻,到深紫外線DUV光(guāng)刻(KrF248nm和ArF193nm)、193nm浸沒式加多(duo)重成像技術👨❤️👨(32nm-7nm),在到(dao)極端紫外🔞線(EUV,<13.5nm)光刻(kè)的發展,甚至采用(yòng)非光學光刻(電子(zi)束曝光、離子束曝(pù)光),以相應波長爲(wèi)感光波🏒長的各類(lèi)光刻㊙️膠也應用☔而(er)生。 光刻膠市場行(háng)業集中度高。日本(běn)企業🌈在半導體光(guang)刻膠領🈲域占據絕(jue)對優勢。半導體光(guang)刻膠主要生産企(qǐ)業💯包括日本東京(jīng)應化、JSR、住友化學、信(xin)越化學;韓國東進(jin)世美肯;美國陶氏(shì)杜邦,其中日本企(qi)業占據約70%市場份(fèn)額。分産品看,東京(jing)應化在g線/i線和Krf光(guang)刻膠領域居龍頭(tou)地位,市場🏃♂️份額分(fèn)别達到27.5%和32.7%。JSR在Arf光刻(ke)膠領域市占㊙️率最(zuì)高,爲25.6%。 根據富📧士經(jīng)濟預測,2023年全球ArF、KrF膠(jiao)産能有望達到1870、3650噸(dun),市場規模近49、28億元(yuán)。日本光刻膠龍頭(tóu)JSR、TOK包括光刻膠在内(nèi)的業務毛利率🔞約(yuē)40%,其中光刻膠原料(liao)成本約占90%。 國内半(bàn)導體用光刻膠生(sheng)産企業包括上海(hǎi)新陽、南大光🏃電、晶(jīng)瑞股份、北京科華(huá)、恒坤股份。目前隻(zhi)有北京科華、晶瑞(rui)股份具備量産KrF光(guāng)刻膠能力,北京科(kē)華産品已爲中芯(xin)國際供貨。上海新(xīn)陽在建的19000噸/年ArF(幹(gan)法)光刻膠項目預(yu)計🐅2022年達産。 面闆光(guang)刻膠 光刻膠是LCD面(miàn)闆制造的關鍵材(cái)料,根據使用對象(xiang)的不同,又可分爲(wèi)RGB膠、BM膠、OC膠、PS膠、TFT膠等。 面(mian)闆光刻膠主要包(bao)括♉TFT配線用光刻膠(jiao)、LCD/TP襯墊料光刻膠、彩(cǎi)色光刻膠及黑色(sè)光刻膠四大類别(bie)。其中TFT配線用光刻(kè)膠用于對ITO布線,LCD/TP沉(chén)澱料光刻膠用于(yú)使LCD兩🌂個玻璃基闆(pǎn)間的液晶材料厚(hou)度保持恒💚定。彩色(sè)光刻膠及黑色光(guang)刻膠可賦予彩色(se)濾光片顯色功能(neng)。 面闆光刻膠市場(chǎng)需要構成穩定,彩(cǎi)色光刻膠需求量(liang)領先,預計🏃♀️2022年全球(qiu)銷售量将達22900噸,銷(xiāo)售🛀🏻額将達8.77億美元(yuán)。 TFT面闆♈用光刻膠、LCD/TP襯(chèn)墊料光刻膠、黑色(sè)❓光刻膠銷售額2022年(nián)預計分别達到3.21億(yì)美元、2.51億美元、1.99億美(mei)元。 根據智研咨詢(xun)測算☂️,2020年全球面闆(pan)光刻膠市場規模(mó)将達到167億人民币(bi),增速維持在4%左右(you)。根據我們的測算(suàn),到2025年光刻膠市場(chang)規模将達到203億人(ren)民币。其🙇♀️中,伴随LCD産(chǎn)業中心的轉移,我(wǒ)國LCD光刻膠市場規(guī)模及國産化率有(you)🥰望逐步提升。 PCB用光(guang)刻膠 PCB光刻膠可根(gen)據塗布方式分爲(wei)UV固化油墨✂️和UV噴塗(tú)油墨。目前國内PCB油(yóu)墨供應商已逐步(bù)實現國産替代‼️,容(rong)大感♻️光、廣信材料(liao)等企業已掌握PCB油(you)🈲墨關鍵技術。 國内(nèi)對⛷️TFT光刻膠和半導(dǎo)體光刻膠仍在起(qǐ)步探索階段。晶瑞(ruì)股份、雅克科技、永(yong)太科技、容大感光(guang)、欣奕華、中電彩虹(hong)、飛凱材料在TFT光刻(ke)膠領域均🚶♀️有布局(ju),其中飛凱材料、北(běi)旭電子規劃産能(néng)高達5000噸/年,雅克科(kē)技通過🈲收購LG化學(xué)下屬彩色光刻膠(jiāo)事業部切入此市(shì)場,在渠道和技術(shù)方面具備優勢。 光(guang)刻膠等技術壁壘(lěi)極高的行業,實📱現(xiàn)技術層面的突破(po)是基礎、其次,需不(bú)斷改進工藝,滿足(zu)半導體行業快速(su)發⭕展的需要。 由于(yu)光刻膠等行業認(ren)證🈲時🔞間較長,客戶(hu)不會輕易更💜換供(gòng)應商,因🏃🏻♂️此進入主(zhu)流供應鏈是極其(qi)必👄要的。國内光刻(kè)膠生産商未來有(you)望把握中國半導(dǎo)體行業進🙇♀️口替代(dài)契機,實現快速發(fā)展。 ◆ 資料來源:電子(zi)材料圈 ◆ 免責聲明(ming):所載内容來源于(yu)互聯♈網,微信🙇🏻公衆(zhong)号等公開渠道,我(wǒ)們對文中觀點持(chi)中立态度,本文僅(jin)供參考、交流。轉載(zai)的稿件版權歸原(yuán)作者和機構所有(yǒu)。
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什(shi)麽是酸銅中間體(tǐ)
酸銅中間體是可(kě)在酸性鍍銅光亮(liang)劑中提供流平,定(dìng)位㊙️和分散性能的(de)材料的總稱。它主(zhǔ)要包括酸性銅染(ran)料,表面活性劑,濕(shi)潤劑,防霧劑等,并(bing)且在電路闆電鍍(du)和硬件電鍍中具(jù)有廣泛的用途。電(dian)路闆的酸性銅鍍(du)層中通常使用的(de)是通孔銅鍍層,盲(máng)孔鍍銅層,緞面銅(tóng)等。所用的酸銅中(zhōng)間體主要包括DEB-45,DEB-MP5,COMP3805,SPS等(deng)材料。
什麽是PCB标準通孔(kǒng)尺寸
PCB制造商在鑽(zuàn)孔時有自己的一(yī)套标準孔尺寸可(ke)供選擇,但他們通(tōng)常可以使用任何(he)标準孔尺寸。一般(ban)情況下,PCB廠家可以(yǐ)使PCB通孔直徑小于(yu)0.15 mm,而正常尺寸爲0.6 mm。
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亞什蘭(lan)Ashland Aqualon EC乙基纖維素
水不(bú)溶性和非離子性(xìng);熱塑性(156℃),優秀的塑(sù)性流動,适合💚于注(zhu)模和🔴熱熔擠出;機(jī)械性質适合于壓(ya)片和成膜;粘度(分(fen)子量)和/或🔴取代度(dù)會顯著影響物理(li)性質。
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