勢銀(TrendBank)研究統計(jì)分析，2021年國内半導(dao)體光刻膠市場規(guī)模将達到29億人民(min)币。
國内半導體光(guang)刻膠布局及生産(chǎn)企業總計約有14家(jia)，真正實現了批量(liang)供應的企業不足(zú)7家，且主要集中在(zài)紫📧外負🌐膠/正膠、i/g線(xian)光刻㊙️膠，如：北京科(ke)華、蘇州瑞紅、濰坊(fang)星泰克、艾森半導(dǎo)體、江蘇漢拓等。而(er)高端的KrF光刻膠國(guo)産化率不足1%，能夠(gòu)實現産品供📱應的(de)有：北京科華、福建(jiàn)泓光半導體、江蘇(su)漢拓、上海新陽等(deng)。在技術附加值更(geng)高的ArF光刻膠産品(pin)上，目前國内還未(wei)能真正實現規模(mó)化量産訂單供應(yīng)，就數甯波南大光(guang)電、博康旗下漢拓(tuò)光學以及廣州微(wēi)納光刻材料在ArF光(guang)刻膠産品上有實(shí)質性的技術突破(pò)。
來源：勢銀(TrendBank)
窺探中(zhōng)國大陸規模最大(dà)的晶圓代工廠中(zhōng)芯國際各技術🔴節(jie)點營收結構，在2020年(nian)年底被美國打壓(yā)，四季度45nm以下制程(chéng)營收發生嚴重壓(yā)縮，但在今年上半(ban)年公司整體運營(yíng)開始逐步轉好，營(ying)收增長🐪了33%，28nm/14nm的先進(jin)👌制程占比更是顯(xiǎn)著提升，這也推動(dòng)了上遊先進光刻(ke)膠的需求，尤其是(shì)ArF光刻膠的國産替(ti)代。
來源：SMIC
目前國内(nèi)芯片制造企業消(xiāo)耗的ArF光刻膠基本(ben)是采購國外供應(ying)商，例如：JSR、TOK、信越化學(xue)等。我國本土光刻(ke)膠🔴企業🔴在ArF光刻膠(jiao)産品上還是和國(guo)際老牌供應商之(zhī)間存在很大的光(guang)刻性能差距👅，如：折(shé)射率、光敏度、分🙇🏻辨(bian)率、線邊緣粗糙度(du)💃等等參數。經勢銀(yin)(TrendBank)調研統計，我國正(zhèng)在真正逐步推進(jin)ArF光刻膠項目且有(you)技術實力的廠商(shang)僅有如下6家，推測(ce)這幾家也将是未(wèi)來2-3年内逐一打入(ru)本土芯片制造商(shāng)供應鏈的最有利(li)競争者：
甯波南大(dà)光電
公司是ArF光刻(ke)膠産品開發與産(chǎn)業化項目的實施(shi)主體單位，目前ArF幹(gan)式光刻膠已通過(guo)50nm閃存平台認證和(hé)55nm邏輯電路❓平🐇台認(rèn)證。公司正在大力(li)推進ArF光刻膠（ArF幹式(shi)分辨率90-45nm，濕式分辨(biàn)率65-14nm）産能建設，規劃(hua)年産能達到25噸（幹(gàn)式5噸和浸沒式20噸(dun)）。
上海新陽
公司是(shi)KrF厚膜膠與ArF光刻膠(jiāo)開發與産業化項(xiang)目的實🐪施主體單(dān)位，已擁有兩台ArF光(guāng)刻機，可分别用于(yu)幹法和濕🐪法光刻(ke)膠開發。目前KrF厚膜(mó)膠（分辨率≥0.15μm，膜厚0.3-15μm）已(yǐ)通過下遊客戶驗(yan)證，可應用于3D存儲(chu)器件工藝/PAD/Implant，預計2021年(nian)年底會有訂單批(pī)💋量供應出貨。其ArF光(guāng)刻膠尚處于客戶(hù)認證當中，可應用(yòng)于先進邏輯節點(diǎn)的Line/Contact/Hole/Trench，按進度預計在(zai)2021年年底🍉會取💋得實(shí)質㊙️性的突破進展(zhan)。
北京科華
公司是(shì)國内本土KrF光刻膠(jiāo)主力供應商，目前(qián)已經打💃🏻入國内多(duō)家💋芯片制造廠供(gòng)應鏈（如長江存儲(chu)、中芯國際、廣州粵(yuè)芯、華虹半導體），2021年(nian)上半年KrF光刻膠同(tóng)比增長94.51%，産品可應(yīng)用于Poly/AA/Metal/Implant/Contact Hole等工藝，其ArF光(guāng)刻膠項目正在按(an)計劃✍️推進。
晶瑞股(gu)份
公司是老牌半(ban)導體光刻膠供應(yīng)商之一，現已擁有(yǒu)一台ArF幹式光刻機(ji)。其KrF光刻膠樣品正(zhèng)在下遊客戶驗證(zhèng)，分辨率可達0.15-0.25μm，可應(ying)用于Hole/Line/Space等層工藝，其(qi)ArF幹式光刻膠正處(chù)在開發階段，分辨(biàn)率可達90-65nm。
江蘇漢拓(tuò)
公司是徐州博康(kāng)集團控股子公司(si)，具備徐州博康成(cheng)熟的KrF、ArF光刻膠單體(tǐ)開發技術背景，目(mu)前已開發KrF正膠和(hé)負膠産品，以負膠(jiāo)（分辨率0.25μm，膜厚0.6μm）和厚(hòu)膜膠😍（分辨率1μm，膜厚(hou)3-5μm）爲重點，可應用于(yu)Lift-off工藝、厚鋁刻蝕、PAD工(gōng)藝；ArF系列光刻膠正(zhèng)在以與客戶合作(zuo)開發模式推進，開(kāi)發的ArF光刻膠樣品(pin)分别達到了N90、N65、N55的應(yīng)用需求，已有一款(kuan)ArF光刻膠産品小批(pi)量供應某存儲芯(xīn)片制造商，全系列(lie)産品還需進一步(bù)在客戶端評估驗(yan)證。
廣州微納光刻(kè)材料
公司專注開(kāi)發ArF光刻膠，目前主(zhǔ)要開發了90nm和55nm節點(diǎn)的ArF光刻膠樣品，90nm節(jiē)點的光刻膠有很(hen)好的線寬粗糙度(dù)，55nm節點的高寬♊比可(kě)達3.2:1，同複旦大學微(wēi)電子學院鄧海教(jiāo)授課題組有深度(dù)合作，其以OEM形式進(jìn)行代工生産，和廣(guǎng)東/嘉興兩家化工(gong)生産企業簽訂了(le)代工協議。
勢銀(TrendBank)2021年(nián)推出最新年度報(bao)告《2021年光刻膠産業(ye)市場分析報告》，本(běn)市場研究報告側(cè)重于國内半導體(tǐ)/顯示光刻膠市👉場(chang)🈲/供應鏈，報告具體(tǐ)目錄如下：
第1章 光(guang)刻膠概念及其行(hang)業發展概述
1.1 光刻(kè)膠概念深度剖析(xī)
1.1.1 光刻膠應用場景(jǐng)分析
1.1.2 光刻膠的産(chǎn)品及應用屬性分(fèn)析
1.1.3 先進光刻材料(liao)熱點剖析
1.2 中國光(guāng)刻膠行業發展現(xiàn)狀
1.2.1 國内光刻膠整(zheng)體市場及國産化(huà)情況
1.2.2 國内光刻膠(jiāo)産業鏈瓶頸剖析(xī)
1.2.3 國内各地利好政(zhèng)策及項目布局剖(pōu)析
第2章 中國光刻(ke)膠專用化學品行(háng)業競争環境分析(xi)
2.1 全球光刻膠專用(yòng)化學品主要企業(yè)格局現狀
2.1.1 上遊主(zhu)要企業所屬地分(fen)布情況
2.1.2 主要企業(ye)化學品經營範疇(chóu)
2.2 國内光刻膠專用(yong)化學品市場分析(xī)
2.3 國内光刻膠專用(yòng)化學品主要企業(yè)剖析
2.3.1 強力新材
2.3.2 聖(sheng)泉集團
2.3.3 徐州博康(kāng)
第3章 中國光刻膠(jiāo)行業競争環境分(fèn)析
3.1 國内光刻膠企(qǐ)業地域分布深度(du)剖析
3.2 國内光刻膠(jiāo)企業的産品/産能(neng)情況統計
3.3 國内光(guāng)刻膠市場深度剖(pou)析
3.3.1 國内半導體及(jí)顯示光刻膠市場(chǎng)格局分析
3.3.2 國内半(bàn)導體及顯示光刻(ke)膠市場規模分析(xi)
3.4 國内光刻膠産業(yè)配套檢測設備剖(pōu)析
3.4.1 配套檢測設備(bei)資金投入占比剖(pou)析
3.4.2 光刻膠關鍵設(shè)備國産化分析
第(dì)4章 全球光刻膠行(hang)業主要企業發展(zhan)情況分析
4.1 國外光(guāng)刻膠産業主要企(qǐ)業經營情況分析(xi)
4.1.1 德國默克
4.1.2 日本TOK
4.1.3 日(rì)本JSR
4.1.4 美國陶氏化學(xué)
4.2 重點企業發展情(qing)況剖析
4.2.1 南大光電(diàn)
4.2.2 晶瑞股份
4.2.3 彤程新(xin)材
4.2.4 上海新陽
4.2.5 雅克(kè)科技
第5章 中國光(guang)刻膠專利及光刻(ke)技術分析
5.1 國内主(zhǔ)要企業專利申請(qing)情況剖析
5.2 國内光(guāng)刻膠專利深度剖(pōu)析
5.2.1 國内光刻膠專(zhuān)利結構分析
5.2.2 國内(nei)外專利趨勢對比(bǐ)分析
5.3 先進光刻技(jì)術路線對比分析(xi)
第6章 中國光刻膠(jiao)下遊需求市場情(qíng)況分析
6.1 下遊應用(yong)結構剖析
6.2 終端市(shi)場格局分析
第7章(zhang)中國光刻膠産業(yè)市場發展趨勢預(yù)測（2021-2025）
第8章中國光刻(kè)膠産業投資機會(huì)及風險分析
8.1 産業(yè)投資機會
8.2 投資風(feng)險分析
轉載自：勢(shì)銀膜鏈微信公衆(zhōng)号。
