亚洲欧美日韩在线行業新聞-深圳市同泰化學技術有限公司 電鍍中間體/水性樹脂與助劑/特種水性油墨/水性納米二氧化矽/工業清洗/半導體化學品
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新聞資訊(xun)

新材料科(ke)技與化學(xue)技術創新(xin)

光(guang)刻膠 | 半導(dao)體高壁壘(lei)核心材料(liao)

導言:光刻(ke)膠目前廣(guang)泛用于光(guang)電信息産(chan)業的微細(xi)圖形線路(lu)加工制作(zuo),光刻工藝(yi)的成本約(yue)占整個芯(xin)片制造工(gong)藝的35%,耗時(shi)🏊🏿‍♀️占整個芯(xin)片工藝的(de)40%到60%,是半導(dao)體制造中(zhong)的核心工(gong)藝。光刻膠(jiao)材料約👧🏾占(zhan)芯片制造(zao)⛹🏻‍♂️材料總成(cheng)本的4%,是半(ban)導體集成(cheng)電路制造(zao)的核心材(cai)💔料。   中國光(guang)刻😗膠市場(chang)增速高于(yu)國際水平(ping),據前瞻産(chan)業研究院(yuan)數據,2019年我(wo)國光刻膠(jiao)本土供應(ying)量約70億元(yuan),自2010年起複(fu)合增速達(da)11%,遠高于全(quan)球增速,但(dan)本土供應(ying)量在全球(qiu)占比僅10%左(zuo)右,且以已(yi)經實現國(guo)産替代的(de)主要是中(zhong)低端PCB光刻(ke)膠,LCD和半導(dao)體領域的(de)光刻膠自(zi)🛌🏻給率極低(di)。   光刻膠是(shi)圖形轉移(yi)介質,其利(li)🙉用光照反(fan)應後溶解(jie)度不同将(jiang)掩膜版圖(tu)形轉移至(zhi)襯底上,主(zhu)要由感光(guang)劑(光引發(fa)劑)、聚合劑(ji)(感光樹脂(zhi))、溶劑與助(zhu)劑構成。   光(guang)刻膠原材(cai)料主要爲(wei)樹脂、溶劑(ji)和其他添(tian)加劑。其中(zhong)溶劑質量(liang)🧜🏼‍♀️占比最大(da),一般在80%以(yi)上。其他添(tian)加劑質量(liang)占比雖不(bu)足5%,卻是決(jue)定光刻膠(jiao)特有性質(zhi)🧑🏽‍🎄的關鍵材(cai)料,包括光(guang)敏劑、表面(mian)活性劑等(deng)材料。   在光(guang)刻工藝中(zhong),光刻膠被(bei)均勻塗布(bu)在矽片、玻(bo)璃和金屬(shu)⛹🏻‍♂️等不同的(de)襯底上,經(jing)曝光、顯影(ying)和蝕刻等(deng)工序将掩(yan)💘膜版上的(de)圖形轉移(yi)到薄膜👼🏾上(shang),形成與掩(yan)膜版完💘全(quan)對應的幾(ji)何圖形。   光(guang)👾刻膠可根(gen)據其下遊(you)應用領域(yu)分爲半導(dao)體光刻膠(jiao)、面闆光刻(ke)膠和PCB光刻(ke)膠三類。   半(ban)導體光刻(ke)膠 目前,KrF/ArF仍(reng)是主流的(de)加工材料(liao)⛹🏻‍♂️。光刻技術(shu)随着集成(cheng)電路的發(fa)展經曆了(le)從G線(436nm)光刻(ke),H線(405nm)光刻,I線(xian)(365nm)光刻,到深(shen)紫外線DUV光(guang)刻(KrF248nm和ArF193nm)、193nm浸沒(mei)式加多重(zhong)成像技術(shu)(32nm-7nm),在到極端(duan)紫外線(EUV,<13.5nm)光(guang)刻的發展(zhan),甚至采用(yong)非光學光(guang)刻(電子束(shu)曝👩🏿‍❤️‍💋‍👨🏽光、離子(zi)😁束👩🏽‍🐰‍👩🏿曝光),以(yi)相應波長(zhang)爲感光波(bo)長的各類(lei)光刻膠也(ye)應用而生(sheng)。 光刻膠市(shi)場行業集(ji)中度高。日(ri)本企業在(zai)半導體光(guang)😮‍💨刻膠領👨🏻‍🏭域(yu)占據絕對(dui)優勢。半導(dao)體光刻膠(jiao)主要生産(chan)企業包括(kuo)日本東京(jing)應化、JSR、住友(you)化學、信越(yue)化👼🏾學;韓國(guo)東進世美(mei)肯;美國陶(tao)氏杜邦,其(qi)中日本企(qi)業占據約(yue)70%市場份額(e)。分産品看(kan),東京應化(hua)在g線/i線和(he)Krf光刻膠領(ling)域居龍頭(tou)地位,市場(chang)份額分别(bie)達到27.5%和32.7%。JSR在(zai)Arf光刻膠領(ling)👱🏼‍♂️域市占率(lü)最高,爲25.6%。 根(gen)據富士經(jing)濟預測,2023年(nian)全球ArF、KrF膠産(chan)能有望達(da)到1870、3650噸,市場(chang)規模近49、28億(yi)元。日本光(guang)刻膠龍頭(tou)JSR、TOK包😁括😘光刻(ke)膠在内的(de)👌業務毛利(li)率約40%,其中(zhong)光刻膠原(yuan)料成本約(yue)占90%。 國内半(ban)導體用光(guang)刻膠生産(chan)企業包括(kuo)上海新陽(yang)、南大光🏊🏿‍♀️電(dian)💔、晶瑞股份(fen)、北京科華(hua)、恒坤😺股份(fen)。目前隻有(you)北京科華(hua)、晶瑞😮‍💨股份(fen)具備量産(chan)KrF光刻膠能(neng)力,北京科(ke)華産品已(yi)🛌🏻爲中芯國(guo)際供貨。上(shang)海新陽在(zai)建的19000噸/年(nian)ArF(幹法)光刻(ke)😍膠項目預(yu)計…2022年達産(chan)。   面闆光刻(ke)膠 光刻膠(jiao)是LCD面闆制(zhi)造的關鍵(jian)材料,根據(ju)使用對象(xiang)的不同,又(you)可分爲RGB膠(jiao)、BM膠、OC膠、PS膠、TFT膠(jiao)等。 面闆光(guang)刻膠主要(yao)包括TFT配線(xian)用光刻膠(jiao)、LCD/TP襯墊料光(guang)刻膠、彩色(se)☠️光刻膠及(ji)黑色光刻(ke)膠四大類(lei)🏃🏻‍♀️别。其中TFT配(pei)線用光刻(ke)膠用于對(dui)ITO布線,LCD/TP沉澱(dian)料光刻膠(jiao)💌用于使LCD兩(liang)👯🏾‍♂️個玻璃基(ji)闆間的液(ye)晶材料厚(hou)度保持恒(heng)🧑🏽‍🎄定。彩色光(guang)刻膠及黑(hei)色光👾刻膠(jiao)可賦予彩(cai)色濾光片(pian)🎅🏿顯色功能(neng)。 面闆光刻(ke)🤑膠市場需(xu)要構成穩(wen)定,彩色光(guang)刻膠需求(qiu)量領先,預(yu)計2022年全球(qiu)銷售量将(jiang)達22900噸,銷售(shou)額将達8.77億(yi)美元。 TFT面闆(pan)用光刻膠(jiao)🎅🏿、LCD/TP襯墊料光(guang)刻膠、黑色(se)光刻膠銷(xiao)售額2022年預(yu)計🙂‍↔️分别達(da)到3.21億美元(yuan)、2.51億美元、1.99億(yi)🏊🏿‍♀️美元。 根據(ju)智研咨詢(xun)測算,2020年全(quan)球面闆光(guang)刻膠市場(chang)規模将達(da)到167億人民(min)币,增速😗維(wei)持在4%左右(you)。根據我們(men)😗的🙂‍↔️測算,到(dao)2025年光刻膠(jiao)市場規模(mo)✋将達到203億(yi)人民币。其(qi)🙉中,伴随LCD産(chan)😘業中心的(de)轉移,我國(guo)LCD光刻膠市(shi)場規模及(ji)國産化率(lü)有望逐步(bu)⛹🏻‍♀️提升。   PCB用光(guang)刻膠 PCB光刻(ke)膠可根據(ju)塗布方式(shi)分爲UV固化(hua)油墨🏊🏿‍♀️和UV噴(pen)塗油墨。目(mu)前國内PCB油(you)墨供應商(shang)已逐😜步實(shi)現國産替(ti)代,容大感(gan)光、廣信材(cai)料等企業(ye)已掌握PCB油(you)墨關鍵技(ji)術。 國内對(dui)TFT光刻膠和(he)半導體光(guang)刻膠仍在(zai)起步探索(suo)階段。晶瑞(rui)股份💔、雅克(ke)科技、永太(tai)科🏊🏿‍♀️技、容大(da)感光、欣奕(yi)華、中電彩(cai)虹、飛凱材(cai)料在TFT光刻(ke)膠領域均(jun)有布局,其(qi)中飛凱材(cai)料、北旭電(dian)子規劃産(chan)能高達5000噸(dun)/年,雅克科(ke)技通過收(shou)購LG化學下(xia)屬彩色光(guang)刻膠事業(ye)部切入此(ci)市場,在渠(qu)♌️道和技術(shu)😥方面具備(bei)優勢。 光刻(ke)膠等技術(shu)壁壘極高(gao)的行業,實(shi)👽現技術層(ceng)面😘的突破(po)是基礎、其(qi)次,需不斷(duan)改進工藝(yi),滿足💞半導(dao)👩‍🍼體行業快(kuai)速發🙆🏿展的(de)需要。 由于(yu)光刻膠等(deng)行業認證(zheng)時👩‍🍼間較長(zhang),客戶不會(hui)輕易更🙂‍↕️換(huan)供應商,因(yin)此進入主(zhu)流供應鏈(lian)是極其必(bi)🧛🏽要的。國内(nei)光刻膠生(sheng)産商未來(lai)有望把握(wo)中國半導(dao)體行業進(jin)口替代契(qi)機,實現快(kuai)速發展。   ◆ 資(zi)🙈料來😍源:電(dian)子材料圈(quan) ◆ 免責聲明(ming)🛌🏻:所載内容(rong)來源于互(hu)聯🤶🏾網🙂‍↕️,微信(xin)😌公衆号等(deng)公開渠道(dao)🎅🏿,我們對文(wen)中觀點持(chi)中立态度(du),本文僅供(gong)參考、交流(liu)。轉載的稿(gao)件版權歸(gui)原作者和(he)機構所有(you)。

發布時間(jian):

2025-11-22

上海(hai)新陽:與Heraeus簽(qian)訂《合作備(bei)忘錄》,推進(jin)半導體光(guang)刻膠發展(zhan)😸

  近日,上海(hai)新陽半導(dao)體材料股(gu)份有限公(gong)司發布了(le)關于🙆🏿簽訂(ding)《合♌️作備忘(wang)錄》的公告(gao),公告顯示(shi)上海新陽(yang)與 HeraeusDeutschland GmbH & Co. KG(以下簡(jian)稱“Heraeus”)簽署的(de)《合作備忘(wang)錄》系雙方(fang)就建立合(he)作關系🏃🏻‍♀️而(er)簽署的框(kuang)架協議,爲(wei)解決中國(guo)半導體供(gong)應鏈面臨(lin)的新挑戰(zhan),推進半導(dao)🧜🏼‍♂️體光刻膠(jiao)的發展,雙(shuang)方将深度(du)合作,共同(tong)努力^優化(hua)創新的光(guang)刻膠解決(jue)方案。     圖片(pian)來源😁:上海(hai)新陽     公告(gao)稱上海新(xin)陽作爲國(guo)内集成電(dian)路制造關(guan)鍵工👾藝材(cai)料供應商(shang),自立項進(jin)行光刻膠(jiao)項目研發(fa)以來,将突(tu)破集成電(dian)路高端光(guang)刻膠國外(wai)壟斷,實現(xian)集成電路(lu)高端光刻(ke)膠材料的(de)國産化作(zuo)爲發展目(mu)标,在ArF幹法(fa)、KrF厚膜及I線(xian)光刻膠方(fang)面已有技(ji)術與産品(pin)的突破ˇ,部(bu)分産品已(yi)經拿到訂(ding)單。     上海新(xin)陽表示,公(gong)司與Heraeus簽署(shu)本協議,旨(zhi)在完善光(guang)刻膠供應(ying)🧑🏾‍🎄鏈,爲光刻(ke)膠項目的(de)開展提供(gong)材料和技(ji)術保障,對(dui)加快公司(si)集成電路(lu)制造🙂‍↔️用光(guang)刻膠産👩‍🍼品(pin)研發項目(mu)進度有積(ji)極影響,有(you)利于加速(su)落實公司(si)🏊🏿‍♀️發展戰略(lue),提✋高公司(si)可持續發(fa)展能力。     據(ju)😈上海新陽(yang)2021年第三季(ji)度💔報告顯(xian)示,今年前(qian)三季度公(gong)司實現營(ying)💞業收入實(shi)現營業收(shou)入71,195.83萬元,較(jiao)上年同比(bi)增長46.31%;實現(xian)歸屬于上(shang)👿市公司股(gu)東的淨利(li)潤8492.42萬元,較(jiao)上年同比(bi)下降51.99%。     在先(xian)前的三季(ji)度業績預(yu)告中👩🏼‍❤️‍👨🏾,上海(hai)新陽表示(shi):   年初至報(bao)告期末,公(gong)司營業收(shou)入繼續保(bao)持大幅增(zeng)長,半導體(ti)和塗料業(ye)務銷售收(shou)入均實現(xian)了50%左右的(de)增長🏃🏻‍♀️;   由于(yu)公司開展(zhan)光刻膠項(xiang)目和參與(yu)國家重大(da)🤑科技項🏃🏿‍♀️‍➡️目(mu),研發投入(ru)持續加大(da),研發費用(yong)增加明顯(xian)。     今年6月末(mo),上海😈新陽(yang)發布公告(gao)稱,公司自(zi)主研發的(de)KrF(248nm)厚膜光刻(ke)膠産品近(jin)😵‍💫日已通過(guo)客戶認證(zheng),并成功取(qu)得第一筆(bi)訂單。公告(gao)稱,上✡️海新(xin)陽開發的(de)365nm I線、248nm KrF、193nm ArF幹法及(ji)濕法光刻(ke)膠可适應(ying)國内0.35-0.11微米(mi)、90-28nm芯片工藝(yi)技術節點(dian)的需求。     11月(yue)22日,上海新(xin)陽在投資(zi)者互動平(ping)台表示,目(mu)🧑🏽‍🎄前KrF光刻膠(jiao)有持續訂(ding)單,ArF光刻膠(jiao)尚在認證(zheng)當中。   來源(yuan):勢ˇ銀膜鏈(lian)👩🏼‍❤️‍👨🏾

發布時間(jian):

2025-11-22

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